膜厚儀,分為手持式和臺式二種,手持式又有磁感應鍍層測厚儀,電渦流鍍層測厚儀,熒光X射線(xiàn)儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應原理時(shí),利用從測頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。
臺式的熒光X射線(xiàn)膜厚儀,是通過(guò)一次X射線(xiàn)穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子,俗稱(chēng)為二次熒光,,在通過(guò)計算二次熒光的能量來(lái)計算厚度值。
基體金屬特性
對于渦流方法,標準片基體金屬的電性質(zhì),應當與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。
基體金屬厚度
檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度,無(wú)損檢測資源網(wǎng) 如果沒(méi)有,可采用3.3中的某種方法進(jìn)行校準。
邊緣效應
不應在緊靠試件的突變處,如邊緣、洞和內轉角等處進(jìn)行測量。
曲率
不應在試件的彎曲表面上測量。
讀數次數
通常由于膜厚儀的每次讀數并不*相同,因此必須在每一測量面積內取幾個(gè)讀數。覆蓋層厚度的局部差異,也要求在任一給定的面積內進(jìn)行多次測量,表面粗造時(shí)更應如此。
表面清潔度
測量前,應**表面上的任何附著(zhù)物質(zhì),如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等,但不要除去任何覆蓋層物質(zhì)。
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